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毅达资本助力上海裕诗突破 CMP 技术难关,推动国产半导体零部件发展

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  • 2024-11-07 02:18:01
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毅达资本完成对上海裕诗实业有限公司的数千万元投资,助力企业进一步加速半导体设备零部件的国产化进程。

毅达资本助力上海裕诗突破 CMP 技术难关,推动国产半导体零部件发展

上海裕诗成立于 2011 年,专注于 WET(湿法清洗)和 CMP(化学机械抛光)半导体设备零部件的研发与生产。公司核心团队由资深半导体设备专家和材料科学家组成,拥有近 20 年的行业经验,在湿法清洗和 CMP 抛光技术领域拥有多项核心技术专利。

目前,上海裕诗的产品已经通过了严格的质量认证,并实现批量使用,有效满足了市场对于高性能、高可靠性半导体设备零部件的需求。通过与国内外多家头部客户的紧密合作,上海裕诗在半导体制造的各个环节都有广泛应用。

毅达资本投资团队认为,上海裕诗不仅在湿法和 CMP 设备零部件领域取得了显著成就,还积极拓展新材料的开发,力争在耐高温耐酸碱且导电的高性能氟塑材领域取得国产化突破。毅达资本期待上海裕诗能够依托其在半导体设备零部件领域的技术优势和市场地位,持续推动国产半导体零部件的自主化、创新化和产业化发展,为我国半导体产业的崛起贡献力量。

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